강사
요코하마 국립 대학 대학원 이공 학부 화학 · 생명 계 공학 전공 교수 羽深 等 氏

취지
기본 현상부터 관점, 트러블 발생시 대처 방법까지 하루만에 설명하겠습니다.
청소의 목적은 무엇입니까? 세탁한다는 것은 무엇을 의미합니까? 그것은 무엇입니까? "깨끗하고 깨끗한"이란 무엇입니까? 다시 생각해 보면 의외로 그 과정을 볼 수 있습니다. 그런 다음 화학 공학의 기초로 영상으로 흐름의 예를 보면서 느낌을 파악하고, 습식 싱글 웨이퍼 형과 배치 형 세척기의 흐름을 이해 한 다음, 초음파의 영향을 비디오.
당신이 그들을 통해 발을 퍼낼 수 있다면 어떨까요? 조치의 관점과 방법을 설명하고 간략하게 설명하겠습니다. 반도체 이외의 청소를 하는 엔지니어를 위한 참고 자료로도 사용할 수 있습니다.

강연 내용
<얻어지는 지식 · 기술>
첨단 재료의 세탁 방법을 짜기 위한 요소
목적에 맞춘 "청정"의 정의
깨끗하게 하기 위해 표면을 다루는 생각
생산 프로세스에 공통적으로 잠재하는 화학 공학(흐름·기포 등의 움직임)

<프로그램>
1. 세척 이유 : 얼룩은 무엇? 언제 어디서 왜 온다?
2. 일반 세정 (세척 4 요소 : 온도, 시간, 화학, 역학)
3. 반도체의 세정에 특유의 것
4. 첨단 기술 정보 (반도체 세정을 취급하고있는 국제 학회 국내 학회)
5. 반도체 세정의 기초 현상
　5.1 표면 현상 (부착 · 이탈 · 당겨 벗겨)
　5.2 흐름, 열 확산 반응
　5.3 장치에서 흐름의 종류
　5.4 흐름의 가시화 관찰 (간단한 예를 그 자리에서 실시)
6. 세척 기내의 흐름과 반응
　6.1 매 엽식 세척기
　　6.1.1 물의 흐름 (관찰과 계산)
　　6.1.2 화학 반응의 예
　6.2 배치 식 세척기
　　6.2.1 물의 흐름 (관찰과 계산)
　　6.2.2 수류 최적화 (변경)
　6.3 초음파의 역사와 물의 움직임 (관찰)
7. 요약 : 곤란할 때 생각해야 할 것은?
□ 질의 응답 □

개최일시 : 2021년 4월 21일(수) 10 : 30 ~ 16 : 30
개최장소 : Zoom를 이용한 Live 세미나
수강료(세금포함) : 49,500엔